第213章 和平演变 (第2/2页)

司选择的是液侵式。

    ??液侵式在理论上的上限是可以制造出来七纳米芯片。

    ??想想就可怕，DUV光刻机竟然可以制造出来七纳米的芯片，第一感觉就是不可能。

    ??不过没有人会这麽做，液侵式的工作方式就是用多重曝光的方式提高精度。

    ??虽然精密度上来了，但是难度却是大大地提升了。

    ??每一次曝光一次，精密度就提升一些，但是难度也会自然而然地提升了。

    ??这样层层累积下去，难度增长的非常大，以至於制造出来的芯片成品率非常低。

    ??根本就是赔本买卖，只适合於不计成本生产，根本就不能盈利。

    ??不仅不能盈利，而且还非常赔钱。

    ??根据现实情况，实际上想要制造出来十纳米以下的芯片，最好的选择还是用EUV光线，也就是极紫光线。

    ??只不过用了极紫光线的光刻机是EUV光刻机了，要是现在星辰公司拿出来EUV光刻机，那是真的有点吓人了。

    ??继续……DUV光线被激光发射器发射出来之後，方向会有一定的偏差，这个时候想要扭转这一个偏差，那麽就需要光束矫正器进行矫正。

    ??一般情况下需要三个光束矫正器就可以矫正过来，这里小白为了提高矫正度，使用了四个光束矫正器。

    ??这样矫正的成都更高，效果也是更好。

    ??光也是一种量，当光束被矫正过来之後，需要能量控制器进行控制光束的能量。

    ??根据我们实际需要来设置光束的能量。

    ??我们需要能量大的话，那就把能量调大一些，需要能量小的话，那麽我们就调小一些。